2020年中国光刻机产业发展现状和竞争分析

技术发展——技术仍在不断进步中

光刻机一般可以分为无掩模光刻机和有掩模光刻机，其具体分类如下：

光刻工艺流程较多，占晶圆制造耗时的40％－50％，光刻技术也在不断的发展，自光刻机面世以来，光刻设备已经进行了四次重大的革新，光刻设备所用的光源，也从最初的g－line，i－line历经KrF、ArF发展到了如今的EUV。目前，EUV光刻机设备被ASML完全垄断，ASML的EUV光刻机市占率达到100％。