产业链——在半导体产业中占据重要地位
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。
光刻机产业的上游主要包括光刻机核心组件和光刻机配套设施，下游则主要应用于半导体／集成电路的制造与封装。
产业政策——政策助力光刻机行业发展
从政策环境上来看，我国对于光刻机行业较为重视。其主要表现在对于整个IC产业链企业的政策优待以及对于半导体设备行业的相关规划与推动。其主要表现在资金方面的补助和人才方面的培养，以及进出口，投融资方面的政策扶持。
在各项政策中较为突出的是《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》项目（02专项），其以专项的形式组织了一批国内光刻机企业进行了一系列重点工艺和技术的攻关，有效促进了我国光刻机行业的发展。
