刻蚀
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半导体刻蚀设备国产化
2021-11-25
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制造离不开刻蚀工艺，中微公司竞争优势成国内第一
2021-08-13
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中微公司：公司12英寸高端刻蚀设备已应用于5nm芯片生产
2021-04-15
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中微发布新一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin－Star®
2021-03-17
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泛林集团推出革命性的新刻蚀技术，推动下一代3D存储器件的制造
2021-01-29