啥是EUV与DUV？
高中端光刻机主要分为两个类别，一种叫做EUV光刻机，即极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）光刻机，一种叫做DUV光刻机，即极深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography）。
而二者的主要区别，就在于光刻机制造芯片所使用的曝光光源的波长的区别。
光刻机工作时，会利用发出的光源通过具有图形的掩膜对涂有光刻胶的晶圆曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使掩膜上的电路图形复印到晶圆上，形象的解释，有点像把芯片电路“拍摄”到“晶圆”上。
因此，光刻机本质上是一种高端光学设备，其实在ASML崛起之前，光刻机产业一直被日本照相机大佬佳能和尼康所把持。没错，别以为佳能尼康仅仅就能做个照相机，人家还能造芯片，而且就算现在佳能尼康也在光刻机领域有一席之地。
在光刻机工作时，使用的光源的波长，可以决定光刻机制造芯片的能力，简单来说，光刻机波长越短，能制造芯片的电路越精细。
因此，波长显著短于DUV的EUV光刻机能制造的芯片电路更精密，或者说能制造芯片的制程更高。目前台积电给高端手机制造5nm甚至3nm芯片所使用的光刻机，都是ASML的EUV光刻机，而且，目前全球有能力制造EUV光刻机的只有ASML。
为什么佳能尼康就不能造EUV光刻机呢？这就说来话长了。ASML在上个世纪80年代创立时，还仅仅是荷兰商业巨头飞利浦合资成立的一家玩票性质的小公司，成立初期ASML员工甚至没有资格在飞利浦的办公大楼里工作。
而那时，尼康佳能两家日本光刻机巨头如日中天，称霸光刻机市场。而且，不仅仅在光刻机市场，彼时日本企业在芯片界叱咤风云，从原料到设备到设计都大有要干翻美国企业的态势。
在这样的背景下，美国政府非常慌，决定要整一下嘚嘚瑟瑟的小老弟，于是乎，在整个80年代，美国一直在用各种手段打压日本芯片企业。
正好赶上那个年代，光刻机技术提升光源波长遇到瓶颈，于是，为了突破光刻技术，美国能源部牵头英特尔、摩托罗拉、AMD、IBM等企业，押注EUV技术，成立了EUV LLC联盟，聚集整个欧美产业链精密制造、光学、化学等领域尖端公司、实验室，并且全力扶持当时还不成气候的ASML，并将日本企业排除在外，因为美国政府认为日企吸取了精良技术后，未来将压过美国。
所以，ASML今天这么NB，并不仅仅因为ASML多牛逼，而是ASML的战队NB。ASML的光刻机零部件，90％以上需要进口，ASML更像是一家精密仪器的集成商。比如ASML自身也没有能力制造EUV光学模组，其供货商为德国老牌光学厂商卡尔蔡司，没错，就是生产照相机镜头的卡尔蔡司。
是不是说DUV光刻机造不了高端芯片只有EUV光刻机可以呢？无论是手机芯片还是笔记本芯片，目前最高端芯片一般采用5nm或者7nm制程芯片，而芯片制造巨头台积电的第一颗7nm芯片，就是采用DUV光刻机制造的。只不过，同样是制造7nm的芯片，DUV光刻机要使用更加复杂的工艺，这会使得成本飙升，良品率也难以控制，而对于连3nm芯片都so easy的EUV光刻机来说，则简单的多。
因此，对于芯片制造企业来说，如果想进入芯片制造最高殿堂，那必须得备几套EUV光刻机。比如老大台积电，仅2020年就采购了15－16 台EUV光刻机，2021 年则至少 13 台起步，预计全年约 16－17 台。
但是，中芯国际目前是真没得挑，虽然重金砸下12亿美金，但其实从ASML买到的也仅仅是DUV光刻机，因为EUV的美国人不让卖。甚至ASML在中芯国际官宣合同后，都急冲冲的出来公告：俺卖的是DUV，EUV，没卖的干活。
这就导致就算中芯国际有了DUV光刻机，最多也只能制造7nm芯片，且相比竞对存在很大劣势，而5nm、3nm，DUV玩儿命也是造不出来的。
不过，就目前的中芯国际来说，有DUV光刻机用，也是天大的好事儿，毕竟目前全球芯片缺的要死，什么级别的芯片订单都会遭到哄抢。
对于目前陷入困境的中芯国际来说，能拿下7nm及以下制程的芯片市场，让产线全速运转，才是目前最务实的打算。
